四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量的等離子體蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃等地方。但是很多用戶不知道四氟化碳的性質(zhì)是什么，今天小編就來詳細的為大家介紹一下：
　　CF4在常溫常壓下是一種無色、無味、易于壓縮的氣體，它不溶于水，其物理性質(zhì)如下：熔點-183.6℃，沸點-128.1℃，液體密度（-130℃）1.613g/cm3，液體折光率（-173℃）1.515，固體轉變點76.2K，臨界溫度-45.67℃，臨界壓力3.74MPa，臨界密度7.1dm3/mol，標準摩爾生成焓-932.31kJ/mol，標準摩爾生成熵261.04J/mol?K，標準摩爾自由能-929.84kJ/mol，標準摩爾生成自由能-887.41kJ/mol。
　　CF4具有高的穩(wěn)定性，屬于完全不燃性氣體，常溫下不與酸、堿及氧化劑反應，900℃以下不與Cu、Ni、W、Mo等過渡金屬反應，1000℃不與碳、氫及CH4反應。室溫下可與液氨-金屬鈉試劑反應，高溫下CF4可與堿金屬、堿土金屬及SiO2反應，生成相應的氟化物。CF4在800℃下開始分解，CF4在電弧作用下可與CO和CO2反應生成COF2，有人還試圖在碳弧溫度中使CF4聚合來合成其他碳氟化合物。
　　由于C-F鍵的化學穩(wěn)定性極強，因此以CF4為代表的全氟烴可認為是無毒的。CF4、C2F6和C3F8的全球變暖勢（GWP）的下限值分別為620、190和53，呈明顯下降趨勢，且遠小于氯氟烴（CFC）、SF6和CO2。
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