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產品簡介：
       處理氣量：（1-1500）Nm3/h
       壓力：≤5.0Mpa
       氫氣純度：≥99.9995％
       露點：≤-70℃
       含氧量：≤1.5ppm
廣泛應用于：
       熔硅單晶爐配套使用，激光器、濺射、半導體生產，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關科研和生產部門。